氟化钇YF3应用及薄膜特性

应用：

氟化钇（YF3）产生的低折射率薄膜层在紫外到红外区域表现出良好的透明度。薄膜不溶于水，应力低，使YF3在许多红外应用中成为ThF4的有用替代品。它可以与其他氟化物化合物和更高指数的ZnS和ZnSe层结合成多层膜，用于AR和过滤涂层，波长大于10μm。它在10.6μm处的吸收很低，但限制了它在不需要最高损伤阈值的激光应用中的应用。

薄膜特性：

用电阻加热法或电蒸发法可以从熔体中沉积出氟化钇薄膜。薄膜密度和折射率随衬底温度的升高而增大。厚度大于2μm将粘附在硫化锌、玻璃和锗衬底上，加热至250°C。氟化钇不溶于水，因此在高温条件下适用。在较冷的基底上，2.8-3.2μm和5.6-7.3μm处存在深度为2-5%的吸水带。当与ZnS或ZnSe多层结合使用时，衬底温度必须降低到~175℃，以避免这些材料在较高温度下表现出的低粘附系数。具有低散射的非晶薄膜可以在低于150℃的衬底温度下沉积，但附着力和折射率性能受到影响。在~250°C以上，薄膜变得结晶和坚硬，但它们表现出明显的分散性，并承受更高的应力。