氧化铝、氧化硅薄膜材料介绍

大部分氧化物材料都有很多相似的性质，一般常用的氧化物材料三氧化二铝、二氧化硅等氧化物材料的特点为：具有耐高温、抗热冲击、机械强度高、坚硬等的特点。 

三氧化二铝材料作为一种很常用的高折射率材料广泛应用于多层膜介质膜中。三氧化二铝薄膜因其光学性能优良、机械强度与硬度高、透明性与绝缘性好、耐磨、抗蚀及化学惰性等特点而引起人们极大的兴趣，已经广泛地应用于光学领域。其薄膜的光学特性强烈依赖于镀膜工艺条件和杂质污染等其他因素。其在镀膜工艺中常常因为它自身的稳定性，作为最后一层膜做保护层。

三氧化二铝薄膜对光纤掺杂来说是很有吸引力的一种材料，这是因为氧化铝在可见光和近红外区域没有吸收峰。掺铒光纤放大器在石英模光纤最低能耗波长1.55um处具有增益高、噪声低、频带宽及饱和输出功率大等特点，所以在光纤通信中被作为中继放大器、功率放大器和前置放大器，是实现全光传输的核心部件。

二氧化硅是唯一的分解小的低折射率氧化物，其折射率为1.46。二氧化硅薄膜作为重要的纳米薄膜材料，具有宽透明区(0.15~8 um)、高硬度、低热膨胀系数、耐摩擦、耐酸碱、抗腐蚀等优点，被广泛应用于光学薄膜元件、半导体集成电路、电子器件、传感器、激光器件、化学催化、生物医学、表面改性和医药包装等领域。